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管式炉,气氛管式炉,真空管式炉,石墨烯管式炉

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    CVD(Z)系列中温管式炉专门设计用于高、中、低温CVD和石墨烯工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,进口Kanthal电阻丝加热,优质刚玉管炉膛,系统可预抽真空,可带气体采用浮子流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计无隔板结构,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。

 
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